350 руб
Журнал «Наукоемкие технологии» №11 за 2013 г.
Статья в номере:
Роль послойного препарирования кристаллов в анализе отказов современных интегральных схем
Ключевые слова: кристалл топологические слои отказ интегральные схемы
Авторы:
В.А. Буробин - к.т.н., генеральный директор, ОАО «ГЗ «Пульсар». E-mail: burobin@gz-pulsar.ru, openline@gz-pulsar.ru Р.А. Милованов - науч. сотрудник, МГТУ МИРЭА. E-mail: Milovanov_r@inbox.ru. А.А. Щука - д.т.н., профессор, МГТУ МИРЭА. E-mail: shchuka@mail.mipt.ru
Аннотация:
Установлено, что при анализе отказов современных ИС на этапе выяления неисправностей катастрофического типа в системе межсоединений кристалла важную роль играет процедура его послойного препарирования. Показано, что основными методами удаления топологических слоев кристалла являются методы плазмо-химического травления, жидкого травления, ионно-лучевого травления (ИЛТ) и микрошлифования. Установлено, что при определении комплекса методов препарирования конкретного кристалла необходимо учитывать особенности и характеристики его топологических слоев.
Страницы: 45-49
Список источников

  1. Милованов, Р.А., Зайцев, А.А., Кельм, Е.А., Шишкин, В.И. Принципы моделирования технологических процессов травления. Применение в электронном обучении // Сб. докл. российских участников Междунар. научно-практ. конференции «Современные информационные и коммуникационные технологии в высшем образовании: новые образовательные программы, педагогика с использованием E-Learning и повышение качества образования» (3-4 апреля 2013 г.). М.: ННОУ«МИПК».2013.
  2. Beck F. Integrated circuit failure analysis. John Wiley & Sons. 1998.
  3. Ross R.J. Microelectronics failure analysis. Desk reference. Sixth Edition. ASM International. 2011.
  4. Skorobogatov S.P. Semi-invasive attacks. A new approach to hardware security analysis. University of Cambridge. Computer laboratory. 2005.
  5. WagnerL.C. Failure analysis of integrated circuit. Tools and techniques. Kluwer academic publishers. 1999.
  6. Wolf S., Tauber R.N., Silicon processing for the VLSI era. V. I: process technology. California, Sunset Beach: Lattice press, 1986.