Влияние потенциала смещения при СВЧ-обработке в плазме различных газов на морфологические и автоэмиссионные свойства пластин Si (100) p-типа
- 1 к.т.н., вед. инженер, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 2 д.т.н., зав. лабораторией СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
- 3 к.т.н., ст. науч. сотрудник, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
- 4 к.т.н., науч. сотрудник, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
Аннотация
Показано влияние потенциала смещения при СВЧ-обработке в плазме хладона, аргона, водорода и кислорода на морфологические и автоэмиссионные свойства пластин Si (100) p-типа проводимости.
Для цитирования
Шаныгин В.Я., Яфаров Р.К., Суздальцев С.Ю., Нефедов Д.В. Влияние потенциала смещения при СВЧ-обработке в плазме различных газов на морфологические и автоэмиссионные свойства пластин Si (100) p-типа // Нелинейный мир. 2017. № 2. С. 32–33.
Список источников
- Яфаров Р.К., Шаныгин В.Я. Особенности структурирования поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ плазменной обработке в различных газовых средах // Письма в ЖТФ. 2013. Т. 39. Вып. 9. С. 1-8.
Полный текст, PDF
350 ₽