2013
- Анализ влияния нейтронного облучения на размеры и параметры оптически активной области и вольт-люмен-амперные характеристики четырехкомпонентных AlGaInP и AlGaInN гетероструктур С. 94-103
- Перспективы использования кубического нитрида бора при создании электронных приборов С. 89-92
- Исследования кубического нитрида бора методами ЦКЛ и ЦКЛВСР в растровом электронном микроскопе С. 84-88
- Использование плазмохимического травления в технологии получения pin-диодов С. 57-60
- Влияние радиационной обработки быстрыми электронами на кремниевые высокочастотные p-i-n-диоды с барьером Шоттки С. 51-56
- Особенности технологии выращивания эпитаксиальных структур для производства pin-диодов СВЧ- и ВЧ-диапазонов в ОАО «Оптрон» и перспективы ее развития С. 22-29
- Новая технология создания ограничительных кремниевых диодов с интегральным теплоотводом С. 19-21