Формирование текстурированных пленок ферромагнитных 3D металлов с различной кристаллографической ориентацией и микроструктурным строением методом магнетронного распыления на постоянном токе
- 1 науч. сотрудник, лаборатория магнитоэлектроники СВЧ, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 2 к.ф.-м.н., вед. науч. сотрудник, лаборатория магнитоэлектроники СВЧ, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 3 д.ф.-м.н., директор, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
Аннотация
Исследовано влияние давления рабочего газа, потенциала смещения на подложке и температуры отжига на формирование кристаллической структуры, кристаллографической ориентации и микроструктуры текстурированных пленок ферромагнитных 3D металлов, осаждаемых методом магнетронного распыления на постоянном токе на подложки SiO2/Si при комнатной температуре.
Для цитирования
Никулин Ю.В., Джумалиев А.С., Филимонов Ю.А. Формирование текстурированных пленок ферромагнитных 3D металлов с различной кристаллографической ориентацией и микроструктурным строением методом магнетронного распыления на постоянном токе // Нелинейный мир. 2014. № 2. С. 5–7.
Список источников
- Yi J. B., Zhou Y. Z., Ding J. et al. An investigation of structure, magnetic properties and magnetoresistance of Ni films prepared by sputtering // JMMM. 2004. V. 284. P. 303.