Влияние температуры отжига на доменную структуру и микроструктуру поликристаллических пленок Ni/SiO2/Si
- 1 научн. сотрудник, лаборатория магнитоэлектрониики СВЧ, СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 2 к.ф.-м.н., вед. научн. сотрудник, лаборатория магнитоэлектроники СВЧ, СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН Ю.А Филимонов - д.ф.-м.н., директор СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
Аннотация
Исследовано влияние температуры отжига на кристаллическую структуру, доменную структуру, морфологию поверхности и процесс намагничивания пленок никеля толщиной 140 нм.
Для цитирования
Никулин Ю.В., Джумалиев А.С. Влияние температуры отжига на доменную структуру и микроструктуру поликристаллических пленок Ni/SiO2/Si // Нелинейный мир. 2011. № 1. С. 13–14.
Список источников
- Yi J.B., Zhou Y.Z., Ding J., et. al.An investigation of structure, magnetic properties and magnetoresistance of Ni films prepared by sputtering // JMMM. 2004. V. 284. P. 303.
- Zhong W.H., Chang Q.S., et.al. Size effect on the magnetism of nanocrysctalline Ni films at ambient temperature // Solid State Communications. 2004. V. 130. P. 603.
- Технология тонких пленок. Справочник / под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. М.: Советское радио. 1977. С. 572.
- Kohmoto O., Mineji N., et.al. Perpendicular anisotropy of sputtered Ni films // JMMM. 2002. V. 239. P.36