Influence of annealing temperature on domain structure and microstructure of polycrystall Ni/SiO2/Si films
- 1 научн. сотрудник, лаборатория магнитоэлектрониики СВЧ, СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 2 к.ф.-м.н., вед. научн. сотрудник, лаборатория магнитоэлектроники СВЧ, СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН Ю.А Филимонов - д.ф.-м.н., директор СФ ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
Abstract
The influence of annealing temperature on crystallinity, domain structure, surface morphology and magnetization process of Ni films were studied.
How to cite
Никулин Ю.В., Джумалиев А.С. Влияние температуры отжига на доменную структуру и микроструктуру поликристаллических пленок Ni/SiO2/Si // Нелинейный мир. 2011. № 1. С. 13–14.
References
- Yi J.B., Zhou Y.Z., Ding J., et. al.An investigation of structure, magnetic properties and magnetoresistance of Ni films prepared by sputtering // JMMM. 2004. V. 284. P. 303.
- Zhong W.H., Chang Q.S., et.al. Size effect on the magnetism of nanocrysctalline Ni films at ambient temperature // Solid State Communications. 2004. V. 130. P. 603.
- Технология тонких пленок. Справочник / под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. М.: Советское радио. 1977. С. 572.
- Kohmoto O., Mineji N., et.al. Perpendicular anisotropy of sputtered Ni films // JMMM. 2002. V. 239. P.36