Single layer natural graphite etching conditions optimization in plasma processing reactor based on beam-plasma discharge
- 1 аспирант, ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
- 2 д.ф.-м.н., зав. лабораторией, ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 3 д.ф.-м.н., вед. науч. сотрудник, ФИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
Abstract
The possibility of nanoscale graphite layers obtaining via thin graphite single crystal low energy etching has been shown. The etching conditions optimization has been made. FLG films both with perfect structure and area greater than 100*100 µm2 has been obtained.
How to cite
Песков В.В., Латышев Ю.И., Шустин Е.Г. Оптимизация режима травления монокристаллов естественного графита в плазмохимическом реакторе на базе пучково-плазменного разряда для получения графена // Нелинейный мир. 2011. № 1.
References
- Novoselov K.S., et. al. Electric Fild Eᤸ ect in Atomically Thin Carbon Films //Science. 2004. V. 306. P. 666.
- Nair R.R., et. al. Fine Structure Constant Defines Visual Transparency of Graphene // Science. 2008. V. 20. P. 1308.
- Kim K.S., et. al. Large-Scale pattern growth of grapheme films for stretchable transparent electrodes // Nature. 2009. V. 457. P. 706.
- Reina A., et. al. Large area, few-layer grapheme films on arbitrary substrates by chemical vapor deposition // Nano Lett. 2009. V. 9. P. 30.
- Песков В.В., Шустин Е.Г. Исследование взаимодействия плазмы с непроводящей поверхностью в пучково-плазменном разряде при слабом магнитном поле // Нелинейный мир. 2009. Т. 7. №6. С. 495.
- Латышев А.Ю., Никитов С.А. Периодические по полю осцилляции магнетосопротивления тонких монокристаллов графита с колоннообразными дефектами // Нелинейный мир. 2010. Т. 8. № 2. С. 104.