350 руб
Журнал «Наукоемкие технологии» №3-4 за 2005 г.
Статья в номере:
Сплавы a-SiC:H и a-SiGe:H, полученные в низкочастотной плазме (55 кГц) тлеющего разряда
Авторы:
Будагян Б.Г., Шерченков А.А., Горбулин Г.Л.
Аннотация:
Разработана технология формирования активных слоев на основе сплавов a-SiGe:H и a-SiC:H с различной шириной запрещенной зоны при повышенных скоростях роста (до 12 A/с для a-SiGe:H и до 15 A/с для a-SiC:H).