350 руб
Журнал «Нелинейный мир» №2 за 2017 г.
Статья в номере:
Влияние потенциала смещения при СВЧ-обработке в плазме различных газов на морфологические и автоэмиссионные свойства пластин Si (100) p-типа
Ключевые слова: травление поверхность кремний автоэлектронная эмиссия
Авторы:
В.Я. Шаныгин - к.т.н., вед. инженер, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН E-mail: vitairerun@mail.ru Р.К. Яфаров - д.т.н., зав. лабораторией СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН С.Ю. Суздальцев - к.т.н., ст. науч. сотрудник, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН Д.В. Нефедов - к.т.н., науч. сотрудник, лаборатория СФ-5, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А.Котельникова РАН
Аннотация:
Показано влияние потенциала смещения при СВЧ-обработке в плазме хладона, аргона, водорода и кислорода на морфологические и автоэмиссионные свойства пластин Si (100) p-типа проводимости.
Страницы: 32-33
Список источников

 

  1. Яфаров Р.К., Шаныгин В.Я. Особенности структурирования поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ плазменной обработке в различных газовых средах // Письма в ЖТФ. 2013. Т. 39. Вып. 9. С. 1-8.