350 руб
Журнал «Нелинейный мир» №11 за 2011 г.
Статья в номере:
Организация производства пленочных структур
Ключевые слова: фоторезист фотошаблон анализ синтез пленочные структуры полигауссовская модель
Авторы:
Н.З. Сафиуллин - д.т.н., д.экон.н., профессор, зав. кафедрой «Технологии радиоэлектронных средств», КНИТУ-КАИ им. А.Н. Туполева. E-mail: snz@trec.kstu-kai.ru Р.Ш. Загидуллин - ст. преподаватель, кафедра «Технологии радиоэлектронных средств», КНИТУ-КАИ им. А.Н. Туполева. E-mail: rustemshag1980@mail.ru
Аннотация:
Рассмотрены функциональные преобразования размеров рисунка фотошаблона в процессе экспонирования, проявления фоторезиста и травления пленки; получены выражения нелинейных искажений рисунка фотошаблона в технологических процессах экспонирования, проявления фоторезиста и травления пленки, и с их использованием синтезирована система оптимальных фотошаблонов; предложена новая схема организации производства пленочных структур, позволяющая повысить выход годных за счет использования системы фотошаблонов в соответствии с производственными флуктуациями толщин фоторезиста и пленки
Страницы: 735-740
Список источников
  1. Моро У. Микролитография. Ч.1: пер с англ. М.: Мир. 1990.
  2. Организация производства: Учеб. пособие / под ред. Н.И. Новицкого. М.: КНОРУС. 2010.
  3. Сафиуллин Н.З., Иванцов В.А., Загидуллин Р.Ш. Организация технологической подготовки производства радиоэлектронных средств / Вестник КГТУ им. А.Н. Туполева. 2010. № 3. С. 79 - 83.
  4. Сафиуллин Н.З. Анализ стохастических систем и его приложения. Казань: Изд-во Казанск. гос. техн. ун-та. 1998.