350 руб
Журнал «Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век» №2 за 2010 г.
Статья в номере:
Перспективные источники плазмы для плазменных и ионно-лучевых нанотехнологий
Авторы:
А.Ф. Александров, К.В. Вавилин, Е.А. Кралькина, В.Б. Павлов, А.А. Рухадзе - Физический факультет МГУ им. М.В.Ломоносова. E-mail: n.f.savchenko@gmail.com
Аннотация:
Представлены источники плазмы для технологических применений, их апробации в технологии поверхностной модификации материалов. Обсуждены семейства исчточников плазмы для работы в условиях высокого вакуума, низкого и атмосферного давления. Выполнено сравнение ионно-пучковых технологий поверхностной модификации материалов, реализованных с помощью оригинальных источников плазмы.
Страницы: 17-27
Список источников
  1. Kaufman H.R.Industrial applications and ion surface engineering. Surface and Coating Technology 74-75. P. 2328.
  2. Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching,deposition, and surface interactions. Edited by S.M. Rossnagel, J.J. Cuomo and W.D. Westwood. Noyes Publications. 1990.
  3. Kaufman H.R. and Robinson R.S. Operation of broad-beam sources. Commonwealth Scientific Corporation, Alexandria, Virginia. 1987.
  4. Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching,deposition, and surface interactions. Edited by S.M. Rossnagel, J.J. Cuomo and W.D. Westwood. Noyes Publications. 1990.
  5. Kaufman H.R. and Robinson R.S. Ion Source Design for Industrial Applications. AIAAJ. 1982. V. 20. P. 745-760.
  6. Плазменные ускорители и ионные инжекторы / под ред. Н.П. Козлова и А.И.Морозова. М.: Наука. 1984.
  7. Kadoma S., Suzuki S. Hollow cathode discharge device. Patent abstract of Japan 57011448 A. Jan. 21. 1982.
  8. Gavrilov N. Plasma emitted of ions. RU 2134921 C1. Nov.20. 1997.
  9. Gavrilin N., Emlin D., Nikulin S. Generation of uniform plasma in the glow discharge with hollow anode and wide aperture hollow cathode // Letters to J. Tech. Physics (Rus.). 1995. V. 25,12. P. 83 - 90.
  10. http://www.orc.ru/~platar/ PLATAR Ltd., 24.05.2000.
  11. Москалёв Б.И.Разряд с полым катодом.М.: Энергия. 1969.
  12. Bugrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Vavilin K.V., Heon-Ju Lee. // J. of Korean Vacuum Science & Technolojy, 5. 2001. P.19 ? 24.
  13. Bugrov G.E., Kondranin S.G., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Savinov D.V., Vavilin K.V., Heon-Ju Lee. // Current Applied Physics. 3. 2003. P. 485 -489.
  14. Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., С-К Ко, Ч.С. Ли. Плазменный источник ионов. Патент RU 2371803. 2008.
  15. Antonova T. et al. // Jpn. J. Appl.Phys. 1998. V. 37. P. 6906-6915.
  16. Lenz B., Schweitzer M. and Loeb H.W.Improved RF-Coupling Method for RIT-Engines, AIAA, 79-2057. 1979.
  17. Piejak R.B., Godyak V.A., and Alexandrovich B.M. // Plasma Sources. Sci.Technol. 1992. V. 1. P.179.
  18. Godyak V.A., Piejak R.B., and Alexandrovich B.M. // Plasma Sources. Sci.Technol. 1994. V. 3.P.169-176.
  19. Godyak V.A., Piejak R.B., and Alexandrovich B.M. // J. of Appl. Phis. 1999. V. 85. 2. P. 703 - 712.
  20. Александров А.Ф, Рябый В.А., Савинов В.П., Якунин В.Г. Физика плазмы // 2002. Т. 28. № 12. С.1086-1092.
  21. Савинов В.П. Физические процессы в граничных областях емкостного высокочастотного разряда // Известия РАН. Сер. Физическая. Т. 67. № 9. С.1232-1236.
  22. Савинов В.П.Граничные эффекты емкостного высокочастотного разряда. Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора физ.-мат. наук. М.: 2001.
  23. Александров А.Ф., Воробьев Н.Ф., Кралькина Е.А., Обухов В.А., Рухадзе А.А. ЖТФ. Т. 64. №11, С.53 - 58.
  24. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В. Керимова И.К., Кондранин С.Г., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Физика плазмы. 2004.  Т. 30. №5. С. 434 - 449.
  25. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Кралькина Е.А.,Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Наукоемкие технологии. 2005. № 1. Т. 6. С. 5.
  26. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Керимова И.Ф., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Прикладная физика. 2005 № 4. С. 70 - 74; 2005. № 5. С. 72 - 78; 2006. № 1. С. 36 - 42; 2006. № 2.  С. 41 - 46; 2006. № 4. С. 54 - 59; 2006. № 5. С. 33 - 38; 2006. № 5. С. 39 ? 46.
  27. Александров А.Ф., Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Рухадзе А.А. //Физика плазмы. 2007. Т. 37. №9. С. 802 - 815; 2007. Т. 37. №9. С. 816 - 827.
  28. Кралькина Е.А. // УФН. 2008. Т. 178. №5. C. 519 - 540.
  29. Alexandrov A.F., Bougrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Rukhadze A.A., Vavilin K.V.Development of Low Power 13.56MHz Ion Source Family // Proceedings of XXV International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 17-22. July 2001 Nagoya, Japan. V. 1. P. 33 - 34.
  30. КиреевВ.Ю., КовалевскийВ.Л., РябыйВ.А., СавиновВ.П., СпорыхинА.А., СухоруковС.С., ШейкоЛ.Н., ЯкунинВ.Г., СологубВ.А., ШелыхмановЕ.Ф. ЯстребовВ.Г.ПатентРФ №2024990.
  31. Alexandrov A.F., Bougrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Rukhadze A.A., Sergeenko V.Yu., Timofeev I.B., Vavilin K.V.13.56MHz discharge at atmospheric pressure & its possibilities for material surface modification // Proceedings of XXV International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 17-22 July 2001 Nagoya, Japan. V. 1. P.35 - 36.
  32. Alexandrov A.F., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Savinov V.P., Sergeenko V.Yu., Timofeev I.B., Bugrov G.E., Vavilin K.V., Plaksin V.Yu., Young Son Mok and Heon-Ju Lee //Journal of Ceramic Processing Research. 2007. V. 8. №. 1. P. 64 - 69.
  33. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Кондранин С.Г., Кралькина Е.А., Плаксин В.Ю., Сергиенко В.Ю., Тимофеев И.Б., Тимофеев Б.И.Способ плазменной обработки материалов, способ генерации плазмы и устройство для плазменной обработки материалов. Патент РФ 2196394.
  34. Plasma Surface Modification of Polymers: Relevance to Adhesion. Edited by M. Strobel, C.S. Lyons and K.L. Mittal. Utrecht. The Netherlands. 1994.
  35. Koh S-K. et al. US patent 5,783, 641. 1998; US patent 5,965,629. 1999; US patent 6,300,641B1. 2001.