350 rub
Journal Nanotechnology : the development , application - XXI Century №2 for 2010 г.
Article in number:
Prospective Plasma Sources for Plasma and Ion-Beam Nanotechnologies
Keywords: plasma ion source surface modification ftoroplast hollow cathode RF pressure
Authors:
Alexandrov A.F., Vavilin K.V., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Rukhadze A.A.
Abstract:
The paper represents the results of many years work of the authors in the field of plasma sources development and their approval in the surface modification technologies. The plasma sources families operating at high vacuum conditions, low and atmospheric pressure are discussed. The results of surface modification technologies realised with the help of original plasma sources are compared
Pages: 17-27
References
  1. Kaufman H.R.Industrial applications and ion surface engineering. Surface and Coating Technology 74-75. P. 2328.
  2. Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching,deposition, and surface interactions. Edited by S.M. Rossnagel, J.J. Cuomo and W.D. Westwood. Noyes Publications. 1990.
  3. Kaufman H.R. and Robinson R.S. Operation of broad-beam sources. Commonwealth Scientific Corporation, Alexandria, Virginia. 1987.
  4. Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching,deposition, and surface interactions. Edited by S.M. Rossnagel, J.J. Cuomo and W.D. Westwood. Noyes Publications. 1990.
  5. Kaufman H.R. and Robinson R.S. Ion Source Design for Industrial Applications. AIAAJ. 1982. V. 20. P. 745-760.
  6. Плазменные ускорители и ионные инжекторы / под ред. Н.П. Козлова и А.И.Морозова. М.: Наука. 1984.
  7. Kadoma S., Suzuki S. Hollow cathode discharge device. Patent abstract of Japan 57011448 A. Jan. 21. 1982.
  8. Gavrilov N. Plasma emitted of ions. RU 2134921 C1. Nov.20. 1997.
  9. Gavrilin N., Emlin D., Nikulin S. Generation of uniform plasma in the glow discharge with hollow anode and wide aperture hollow cathode // Letters to J. Tech. Physics (Rus.). 1995. V. 25,12. P. 83 - 90.
  10. http://www.orc.ru/~platar/ PLATAR Ltd., 24.05.2000.
  11. Москалёв Б.И.Разряд с полым катодом.М.: Энергия. 1969.
  12. Bugrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Vavilin K.V., Heon-Ju Lee. // J. of Korean Vacuum Science & Technolojy, 5. 2001. P.19 ? 24.
  13. Bugrov G.E., Kondranin S.G., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Savinov D.V., Vavilin K.V., Heon-Ju Lee. // Current Applied Physics. 3. 2003. P. 485 -489.
  14. Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., С-К Ко, Ч.С. Ли. Плазменный источник ионов. Патент RU 2371803. 2008.
  15. Antonova T. et al. // Jpn. J. Appl.Phys. 1998. V. 37. P. 6906-6915.
  16. Lenz B., Schweitzer M. and Loeb H.W.Improved RF-Coupling Method for RIT-Engines, AIAA, 79-2057. 1979.
  17. Piejak R.B., Godyak V.A., and Alexandrovich B.M. // Plasma Sources. Sci.Technol. 1992. V. 1. P.179.
  18. Godyak V.A., Piejak R.B., and Alexandrovich B.M. // Plasma Sources. Sci.Technol. 1994. V. 3.P.169-176.
  19. Godyak V.A., Piejak R.B., and Alexandrovich B.M. // J. of Appl. Phis. 1999. V. 85. 2. P. 703 - 712.
  20. Александров А.Ф, Рябый В.А., Савинов В.П., Якунин В.Г. Физика плазмы // 2002. Т. 28. № 12. С.1086-1092.
  21. Савинов В.П. Физические процессы в граничных областях емкостного высокочастотного разряда // Известия РАН. Сер. Физическая. Т. 67. № 9. С.1232-1236.
  22. Савинов В.П.Граничные эффекты емкостного высокочастотного разряда. Автореферат диссертации на соискание ученой степени доктора физ.-мат. наук. М.: 2001.
  23. Александров А.Ф., Воробьев Н.Ф., Кралькина Е.А., Обухов В.А., Рухадзе А.А. ЖТФ. Т. 64. №11, С.53 - 58.
  24. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В. Керимова И.К., Кондранин С.Г., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Физика плазмы. 2004.  Т. 30. №5. С. 434 - 449.
  25. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Кралькина Е.А.,Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Наукоемкие технологии. 2005. № 1. Т. 6. С. 5.
  26. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Керимова И.Ф., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А. // Прикладная физика. 2005 № 4. С. 70 - 74; 2005. № 5. С. 72 - 78; 2006. № 1. С. 36 - 42; 2006. № 2.  С. 41 - 46; 2006. № 4. С. 54 - 59; 2006. № 5. С. 33 - 38; 2006. № 5. С. 39 ? 46.
  27. Александров А.Ф., Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Рухадзе А.А. //Физика плазмы. 2007. Т. 37. №9. С. 802 - 815; 2007. Т. 37. №9. С. 816 - 827.
  28. Кралькина Е.А. // УФН. 2008. Т. 178. №5. C. 519 - 540.
  29. Alexandrov A.F., Bougrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Rukhadze A.A., Vavilin K.V.Development of Low Power 13.56MHz Ion Source Family // Proceedings of XXV International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 17-22. July 2001 Nagoya, Japan. V. 1. P. 33 - 34.
  30. КиреевВ.Ю., КовалевскийВ.Л., РябыйВ.А., СавиновВ.П., СпорыхинА.А., СухоруковС.С., ШейкоЛ.Н., ЯкунинВ.Г., СологубВ.А., ШелыхмановЕ.Ф. ЯстребовВ.Г.ПатентРФ №2024990.
  31. Alexandrov A.F., Bougrov G.E., Kondranin S.K., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Rukhadze A.A., Sergeenko V.Yu., Timofeev I.B., Vavilin K.V.13.56MHz discharge at atmospheric pressure & its possibilities for material surface modification // Proceedings of XXV International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 17-22 July 2001 Nagoya, Japan. V. 1. P.35 - 36.
  32. Alexandrov A.F., Kralkina E.A., Pavlov V.B., Savinov V.P., Sergeenko V.Yu., Timofeev I.B., Bugrov G.E., Vavilin K.V., Plaksin V.Yu., Young Son Mok and Heon-Ju Lee //Journal of Ceramic Processing Research. 2007. V. 8. №. 1. P. 64 - 69.
  33. Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Кондранин С.Г., Кралькина Е.А., Плаксин В.Ю., Сергиенко В.Ю., Тимофеев И.Б., Тимофеев Б.И.Способ плазменной обработки материалов, способ генерации плазмы и устройство для плазменной обработки материалов. Патент РФ 2196394.
  34. Plasma Surface Modification of Polymers: Relevance to Adhesion. Edited by M. Strobel, C.S. Lyons and K.L. Mittal. Utrecht. The Netherlands. 1994.
  35. Koh S-K. et al. US patent 5,783, 641. 1998; US patent 5,965,629. 1999; US patent 6,300,641B1. 2001.