350 руб
Журнал «Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век» №1 за 2010 г.
Статья в номере:
Эмиссионные свойства линейно-цепочечного углерода
Ключевые слова: линейно-цепочечный углерод холодная эмиссия эффект Шоттки
Авторы:
В.В. ХВОСТОВ, В.Г. БАБАЕВ , М.Б. ГУСЕВА, Н.Ф. САВЧЕНКО, О.А. СТРЕЛЕЦКИЙ, Ю.Г. КОРОБОВА, А.Ф. АЛЕКСАНДРОВ Физический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова E-mail: n.f.savchenko@gmail.com
Аннотация:
Исследованы эмиссионные свойства холодного катода из линейно-цепочечного углерода (ЛЦУ). На основе углеродных микроволокон и порошка, приготовленного из них, изготовлен холодный катод с вольт-амперной характеристикой, отвечающей закону Шоттки с работой выхода 0,4 эВ при нулевом вытягивающем поле и 0,27 эВ при вытягивающем поле 2000 В/мм. Изучена структура волокнистого и порошкового ЛЦУ и ее изменения в процессе формирования и отжига. Показано, что определяющим фактором снижения работы выхода покрытия ЛЦУ является формирование наночастиц из взаимно разориентированных коротких углеродных цепочек.
Страницы: 80-87
Список источников
  1. KanM.C., HuangJ.L., SungJ.C.etal. // J. Mater Res. 2003. V. 18. № 7. P. 1594.
  2. ZhuW., BowerC., KochanskiG.P.,JinS. // Diamond Relat Mater. 2001. V. 10. P. 1709.
  3. WangS.G., ZhangQ., YoonS.F.etal. // Diamond RelatMater. 2003. V. 12. P. 8.
  4. GroningO., KuttelO.M., GroningP.,SchlapbachL. // Appl. Surf. Sci. 1997. V. 111. P. 135.
  5. KanM.C., HuangJ.L., SungJ.C.,LiiD.F. // J. Vac. Sci.Technol. B. 2003. V. 21. №4. P. 1216.
  6. ZhuW., KochanskiG.P.,JinS. // Science. 1998. V. 282. - 20. P. 1471.
  7. MayP. W., StefanH., MichaelN.R. etal. // J. Appl.Phys. 1998. V. 84. № 3. P. 1618.
  8. WangS.G., ZhangQ., YoonS.F.etal. // Surface Coatings Technology. 2003. V. 167. P. 143.
  9. Ming-ChiKan, Jow-LayHuang, SungJ.C. etal. // Carbon. 2003. V. 41. P. 2839.
  10. ChenK.H., WuJ.J., ChenL.C.etal. // Diamond Relat
    Mater. 2000. V. 9. P. 1249.
  11. ObraztsovA .N., ZakhidovAl.A.,VolkovA.P. // Diamond Relat. Materials. 2003. V. 12. P. 446.
  12. LlieA., FerrariA.C., YangiT., RobertsonJ. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 76. - 18. P. 2627.
  13. YoshimotoG.T, IwataT., MinesawaR. etal. // Jpn. J. Appl. Phys. 2001. V. 40. P. 983.
  14. ОбразцовА.Н., ПавловскийИ.Ю.,ВолковА.П. // ЖТФ. 2001. Т. 71. Вып. 11. С. 89.
  15. РахимовА. Т. // УФН. 2000. T. 70. № 9. C. 996.
  16. TarntairF.G., ChenL.C., WeiS.L.etal. // J. Vac. Sci. Technol. B. 2000. V. 18. - 3. P. 1207.
  17. ShershinE.P. // Appl. Surf. Sci. 2003. V. 215. P. 191.
  18. МодиносA. IIАвто-термо- и вторично-электронная эмиссионная спектроскопия. М.: Наука.1990. 319 с.
  19. ШершинЕ.П. // Структура поверхности и автоэмиссионные свойства углеродных материалов. М.: Изд. МФТИ, 2001. 288 с.
  20. KudryavtsevYu.P., EvsyukovS.E.,GusevaM.B., BabaevV.G.// Carbon. 1992. V. 30. - 2. P. 213.
  21. PCT Patent, International Application Number PCT/IB96/01487 (Russia). Tetracarbon/Moscow State
    University. Guseva M.B., Babaev V.G., Novikov N.D. 1996. WO 97/25078.
  22. КупцовА.Х., ЖижинГЛ. Фурье-КР и Фурье-ИК спектры полимеров. М.: Физматлит. 2001. 656 с.
  23. БабаевВ.Г., ГусеваМ.Б.,СавченкоН. Ф. идр. //
    Поверхность. Рентген., синхр. и нейтрон, исслед 2004. №3. С.16.
  24. СавченкоН.Ф., ГусеваМ.Б. // Тез. докл. Всесоюзн. симп. «Электронная микроскопия и электронография в исследовании образования, структуры и свойств твердых тел». Звенигород. 1983. Ч. 1. С. 38.
  25. ErgunS., DonaldsonW. F.,SmithW. // Burean of mines
    Bulletin USA. 1965. № 620. P. 1.
  26. HeimannR. B., KleimanJ.,SalanskyN. M. // Carbon. 1984. V. 22. №2.с.164.
  27. LouL., NordlanderP. // Phys.i Rev. B. 1996. V. 54. № 23. P. 16659.
  28. PengLiu, YangWei,KailiJiang, QinSun, XiaoboZhang, andShoushanFan // Physical Review B. 2006. V. 73. P. 235412.
  29. ChenY., ShawD., GuoL. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 76. P. 2469.
  30. HsiehC.-T., ChenJ.-M.,KuoR.-R. Huang Y.-H. // Rev. Adv. Mater Sci. 2003. V. 5. P. 459.
  31. Srivastava S.K.,Vankar V.D., SridharRao D. V., and
    VikarmKumar // Thin Solid Films. 2006. V. 515.
    P. 1851-1856.
  32. Nilsonl L., Groening O., Emmenegger C., Kuettel O.,
    Schaller E., Schlapbach L., Kind H., Bonard J. and Kern K.     // Applied Physics Letters. 2000. V. 76. P. 2071-2073.
  33. Wen J.G., Huang Z.P., Wang D.Z., Chen J.H., Yang S.X., Ren Z.F., Wang J.H., Calvet L.E., Chen J., KlemicJ.F.andReedM.A. // J. Mater. Res. 2001. V.16. P. 3246-3253.