350 руб
Журнал «Наноматериалы и наноструктуры - XXI век» №1 за 2016 г.
Статья в номере:
Основные закономерности получения растворов для формирования нанопористых полиметилсилсесквиоксановых пленок золь-гель методом
Ключевые слова: золь-гель метод тонкие пленки диэлектрики диэлектрическая проницаемость показатель преломления пороген нанопоры гидролиз конденсация
Авторы:
Р.Н. Ненашев - аспирант, Московский технологический университет (МИРЭА). E-mail: nenashev@mirea.ru Н.М. Котова - вед. инженер, Московский технологический университет (МИРЭА). Е-mail: kotova1953@yandex.ru
Аннотация:
Рассмотрены закономерности синтеза полиметилсилсесквиоксановых пленкообразующих растворов путем проведения реакций гидролиза и конденсации метилтриметоксисилана. Показано, что данные растворы могут являться матрицей при формировании нанопористых пленок с низкой диэлектрической проницаемостью ε методом темплатного синтеза.
Страницы: 27-35
Список источников

 

  1. Васильев В.А., Воротилов К.А., Сигов А.С. и др.Изолирующие слои многоуровневой разводки интегральных схем с низкой диэлектрической проницаемостью // Электронная промышленность. 2004. № 4. С. 145-153.
  2. Vorotilov K.A., Petrovsky V.I., Vasiljev V.A. et al. ORMOSILS Films: Properties and Microelectronic Applications // J. Sol-Gel Sci. Technol. 1997. V. 8. P. 581-584.
  3. Серегин Д.С., Воротилов К.А., Сигов А.С.Формирование мезопористых силикатных пленок золь-гель методом с использованием полиэтиленгликолей // Вестник МГТУ МИРЭА. 2015. № 2(7). С. 304-315.
  4. Васильев В.А., Серегин Д.С., Воротилов К.А. Гибридные пористые силикатные пленки с управляемой наноструктурой // Нано- и микросистемная техника. 2007. № 12. С. 23-28.
  5. Baklanov M.R., Maex K., Green M. Dielectric Films for Advanced Microelectronics. Chichester: John Wiley & Sons. 2007. 508 p.
  6. Kim S.M., Yoon D.Y., Nguyen C.V. et al. Experimental and Theoretical Study of Structure-Dielectric Property Relationships for Polysilsesquioxanes // MRS Symp. Proc. 1998. V. 511. P. 39-47.
  7. Semiconductor Industrial Association. The International Technology Roadmap For Semiconductors // ITRS 2013 Update, URL: http://www.itrs.net.
  8. Nguyen C.V., Carter K.R., Hawker C.J. et al. Low-Dielectric, Nanoporous Organosilicate Films Prepared via Inorganic/Organic Polymer Hybrid Templates // Chemistry of Materials. 1999. V. 11. № 7. P. 3080-3085.
  9. Suminoe T., Matsumura Y., Tomomitsu O. Soluble Siloxanes from Methyltrichlorosilane // Chem. Abstr. 1978. V. 89. P. 33-37.
  10. Abe Y., Hatano H, Gunji T. Preparation and Properties of Flexible Thin Films // J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 1995. V. 33. № 4. P. 751-754.
  11. Takamura N., Gunji T., Hatano H., et al.Preparation and Properties of Polysilsesquioxanes // J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 1999. V. 37. № 7. P. 1017-1026.
  12. Poly(methylsilsesquioxane) Copolymers and Preparation Method thereof: международнаязаявка WO 2002/040571: МПК B 05 D 5/06, C 08 G 77/04 / Lee J.-K., Rhee H.-W., Char K.-H., Yoon D.-Y. № PCT/KR2001/001958; заявл. 16.11.01; опубл. 23.05.02; приоритет 17.11.00, № 2000-68435 (Корея).
  13. Voronkov M.G., Mileshkevich V.P., Yuzhelevski Y.A. The Siloxane Bond. Consultants Bureau: New York. 1978. 415 p.
  14. Pohl E.R., Osterholtz F.D. Molecular Characterization of Composite Interfaces, eds. H. Ishida and G. Kumar. New York: Plenum. 1985.157 p.
  15. Coltrain B.K., Melpolder S.M., and Salva J.M. Proceedings of the IVth Int\'l. Conference on Ultrastructure Processing of Ceramics, Glasses, and Composites, Feb. 19-24 1989.
  16. McNeill K.J., DiCaprio J.A., Walsh D.A., and Pratt R.F. Kinetics and Mechanism of Hydrolysis of a Silicate Triester, Tris(2-methoxyethoxy)phenylsilane // J. Am. Chem. Soc. 1980. V. 102. P. 1859-1865.
  17. Aelion R., Loebel A., Eirich F.Hydrolysis of Ethyl Silicate// J. Am. Chem. Soc. 1950. V. 72. P. 5705-5712.
  18. Klemperer W.G., Ramamurthi S.D. Better Ceramics Through Chemistry III, eds. C.J. Brinker, D.E. Clark, and D.R. Ulrich. Pittsburgh: Mat. Res. Soc. 1988. P. 1-14.
  19. Brinker C.J., Scherer G.W. Sol-gel Science. Academic Press: San Diego. 1990. P. 140-141.
  20. Morrison R.T., Boyd R.N.Organic Chemistry. 6th ed. Prentice Hall: New York. 1992. 1360 p.
  21. Sacks M.D., Sheu R.-S.Rheological Properties of Sol-gel Materials // J. Non-Cryst. Solids. 1987. V. 92. P. 383-396.
  22. Stober W., Fink A., Bohn E. Controlled Growth of Monodisperse Silica Spheres in the Micron Size Range // J. Colloid and Interface Sci. 1968. V. 26. P. 62-69.
  23. Assink R.A. and Kay B.D. Sol-gel Kinetics I. Functional Group Kinetics // J. Non-Crystalline Solids. 1988. V. 99. P. 359-370.
  24. Lee J.-K., Char K., Rhee H.-W. et al. Synthetic Control of Molecular Weight and Microstructure of Processible Poly(methy-lsilsesquioxane)s for Low-Dielectric Thin Film Applications // Polym. J. 2001. V. 42. P. 9085-9089.
  25. Wallace W.E., Guttman C.M., Antonucci J.M. Polymeric Silsesquioxanes: Degree-of-Intramolecular-Condensation Measured by Mass Spectrometry // Polym. J. 2000. V. 41. P. 2219-2226.
  26. Artaki I., Zerda T.W., JonasJ. Solvent effects on the condensation stage of the sol-gel process // J. Non-Crystalline Solids. 1986. V. 81. P. 381-395.
  27. Ненашев Р.Н., Котова Н.М., Вишневский А.С., Воротилов К.А. Влияние условий гидролиза и конденсации метилтриметоксисилана на свойства тонких полиметилсилсесквиоксановых плёнок // Неорганические материалы. 2016. Т. 52. № 6. (впечати).
  28. Brinker C.J. Evaporation-Induced Self-Assembly: Functional Nanostructures Made Easy // MRS bulletin. 2004. V. 29. № 9.  P. 630-640.
  29. Sanchez C., Boissiere C., Grosso D., et al. Design, Synthesis, and Properties of Inorganic and Hybrid Thin Films Having Periodically Organized Nanoporosity // Chemistry of Materials. 2008. V. 20. № 3. P. 682-737.
  30. Matheron M., Bourgeois A., Brunet-Bruneau A., et al. Highly Ordered CTAB-Templated Organosilicate Films // J. Mater. Chem. 2005. V. 15. P. 4741-4745.
  31. Volksen W., Hawker C. J., Hedrick J. L. et al., Porous organosilicates for on-chip applications: dielectric generational extendibility by the introduction of porosity, Chap 6, Low Dielectric Constant Materials for IC Applications. Ho et al., eds. Springer-Verlag, 2003. P. 167-202.
  32. Ненашев Р.Н., Котова Н.М., Вишневский А.С., Воротилов К.А.Cвойства тонких пористых полиметилсилсесквиоксановых плёнок, полученных золь-гель методом // Неорганические материалы. 2016. (впечати).