350 руб
Журнал «Наноматериалы и наноструктуры - XXI век» №2 за 2013 г.
Статья в номере:
Свойства наноразмерных пленок оксида алюминия, полученных золь-гель методом при тепловом и электронно-лучевом отжиге
Ключевые слова: золь-гель технология Al2O3 электронно-лучевая обработка атомно-силовая микроскопия вольт-фарадные характеристики РФЭС эллипсометрия
Авторы:
Е.В. Луговой - ведущий инженер НОЦ «Нанотехнологии», Южный федеральный университет (г. Таганрог). Е-mail: euglugovoy@yandex.ru С.П. Авдеев - к.т.н., доцент, Южный федеральный университет (г. Таганрог). Е-mail: savdeev@sfedu.ru П.В. Серба - д.ф.-м.н., профессор, зав. кафедрой, Южный федеральный университет (г. Таганрог). Е-mail: serba@tsure.ru М.В. Рубашкина - аспирант, Южный федеральный университет (г. Таганрог). Е-mail: marubashkina@sfedu.ru В.В. Ткачук - студент, Южный федеральный университет (г. Таганрог). Е-mail: apva-a@yandex.ru
Аннотация:
Рассмотрены вопросы синтеза наноразмерных пленок золь-гель технологией с последующим формированием стационарным и локальным тепловыми воздействиями в вакууме. В качестве пленкообразующего раствора применялся изопропилат алюминия, позволяющий получить высокочистый ксерогель бемита. Пленка ксерогеля является исходным материалом для рекристаллизации под воздействием тока электронного луча. Установлено, что модифицированные золь-гель пленки после отжига в вакууме и фазовых превращений имеют диэлектрическую проницаемость на 23-26 % ниже, чем у монокристаллического сапфира.
Страницы: 30-35
Список источников

  1. Ruppi S., Larsson A. Chemical vapour deposition of k-Al2O3 // Thin Solid Films. 2001. № 388. P. 50-61.
  2. Siddhartha K. Pradhan, Philip J. Reucroft, Yeonkyu K. Crystallinity of Al2O3films deposited by metalorganic chemical vapor deposition // Surface and Coatings Technology. 2004. № 176. P. 382-384.
  3. / Nobuyuki Kawakami, Yoshihiro Yokota, Takeshi Tachibana, Kazushi Hayashi. Atomic layer deposition of Al2O3thin films on diamond // Diamond & Related Materials. 2005. № 14. P. 2015-2018.
  4. Yadong Zhang, Jacob A. Bertrand, RongguiYang, et al. Electroplating to visualize defects in Al2O3 thin films grown using atomic layer deposition // Thin Solid Films. 2009. № 517. P. 3269-3272.
  5. Gottmann J., Kreutz E.W.Pulse laser deposition of alumina and zirconia thin films on polymers and glass as optical and protective coating // Surface and Coating Technology. 1999. № 116-119. P. 1189-1194.
  6. Chengbin Jing, Xiujian Zhao, Yongheng Zhang Sol-gel fabrication of compact, crack-free alumina film // Materials Research Bulletin. 2007. № 42. P. 600-608.
  7. Masalski J., Gluszek J., Zabrzeski J., et al.Improvement in corrosion resistance of the 316l stainless steel by means of Al2O3 coatings deposited by the sol-gel method // Thin Solid Films. 1999. № 349. P. 186-190.
  8. Авдеев С.П., Милешко Л.П., Музыков П.Г. и др. Перспективы применения электронно-лучевой обработки для модификации золь-гельных пленок легированного диоксида кремния // Физика и химия обработки материалов. 1998. № 2. С. 77-83.
  9. Лохов, Сапогин, Чередниченко. Зарядовые процессы при электронно-лучевой модификации поверхности оптических стекол // Изв. ВШ Северо Кавказский регион. Естественные науки. 1995. № 3. С. 62-67.
  10. Пшеницын В.И., Абаев М.И, Лызлов Н.Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях. Л.: Химия. 1986. 152 с.
  11. Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии: Пер. с англ. / Под ред. Д. Бриггса, М.П. Сиха. М.: Мир. 1987. 600 с.