350 руб
Журнал «Успехи современной радиоэлектроники» №11 за 2014 г.
Статья в номере:
Влияние технологических параметров магнетронного распыления на механические напряжения и шероховатость поверхности пленок молибдена
Ключевые слова: магнетронное напыление пленки молибдена механические напряжения шероховатость поверхности пленок брэгговский отражатель
Авторы:
В.Н. Зима - к.т.н., вед. науч. сотрудник, ОАО «Омский научно-исследовательский институт приборостроения». E-mail: info@oniip.ru Т.Н. Танская - мл. науч. сотрудник, ОАО «Омский научно-исследовательский институт приборостроения». E-mail: info@oniip.ru
Аннотация:
Исследованы пленки молибдена, полученные на подложках из ситалла СТ50-1-1-0,6 методом магнетронного распыления. Изучено влияние режимов магнетронного распыления на механические напряжения и шероховатость поверхности пленок молибдена. Определены параметры технологических режимов магнетронного распыления, при которых шероховатость поверхности пленок и механические напряжения минимальны. Установлено, что пленки молибдена на ситалловых подложках имеют сжимающий характер механических напряжений. Их величина не превышает (-1,0) ГПа. Среднеквадратичное отклонение шероховатости поверхности пленок Мо были менее 2 нм. Результаты исследований будут полезны при изготовлении тонкопленочных СВЧ-резонаторов с брэгговским отражателем.
Страницы: 62-69
Список источников
  1. Shen Y.G. Effect of deposition conditions on mechanical stresses and microstructure of sputter-deposited molybdenum and reactively sputter deposited molybdenum nitride films // Mater. Sci. Eng. A. Oct. 2003. V. 359. № 1. P. 158-167.
  2. Khatri H., Marsillac S. Effect of deposition parameters on r.f. sputtered molybdenum thin films // J. Phys. Condens. Mater. Jan. 2008. V. 20. № 5. P. 055206.
  3. Tralshawala N., Brekosky R.P., Li M.J., Figueroa-Feliciano E., Finkbeiner F.M., Lindeman M.A., Stahle C.M., Stahle C.K. Fabrication of Mo/Au transition-edge sensors for X-ray spectrometry // IEEE Trans. Appl. Supercond. Mar. 2001. V. 11. № 1. P. 755-758.
  4. Fabrega L., Fernandez-Martinez I., Parra-Borderias M., Gil O., Camon A., Gonzalez-Arrabal R., Sese J., Santiso J., Costa-Kramer J.-L., Briones F. Effect of stress and morphology on the resistivity and critical temperature of room-temperature-sputtered Mo thin films // IEEE Trans. Appl. Supercond. Dec. 2008. V. 19. № 6. P. 3779-3785.
  5. Oikawa H., Nakajima Y. Effect of heat treatment after deposition on internal stress in molybdenum films on SiO2/Si substrates // J. Vac. Sci. Technol. 1977. V. 14. № 5. P. 1153‑1156.
  6. Кайно Г. Акустические волны: Устройства, визуализация и аналоговая обработка сигналов: Пер. с англ. М.: Мир. 1990.
  7. Cyung C.J., Chen Y.C., Cheng C.C., Wei C.L., Kao K.S. Influence of Surface Roughness of Bragg Reflectors on Resonance Characteristics of Solidly-Mounted Resonators // IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics and Frequency Control. 2007. V. 54. № 4. P. 802-807.
  8. Stoney G.G. The Tension of Metallic Films Deposited by Electrolysis // Proc. R. Soc. Lond. A. 1909. № 82. P. 172‑175.
  9. Раскатов В.М., Чуенков В.С., Бессонова Н.Ф., Вейс Д.А. Машиностроительные материалы: Краткий справочник. М.: Машиностроение. 1980.
  10. Хасс Г., Тун Р.Э. Физика тонких пленок. Современное состояние исследований и технические применения / Пер. с англ. М.: Мир. 1968. Т. 3.