Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования
- 1,2,5 к.т.н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
- 3 д.т.н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
- 4 аспирант, Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Ключевые слова:
моделирование технологических процессоваванпроектированиеиммерсионная ультрафиолетовая литографиярандомизированный метод оптимизацииустройство для формирования нанодорожек
Аннотация
Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок, обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов; показано, что реализация «обхода» проблем малых выборок увеличивает объем исходных данных и повышает эффективность технического моделирования; представлено устройство, формирующее дорожки диапазоном порядка 32 нм и минимальной технологической дефектностью процесса.
Для цитирования
Балан Н.Н., Васин В.А., Ивашов Е.Н., Костомаров П.С., Степанчиков С.В. Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования // Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век. 2012. № 3. С. 6–11.
Список источников
- Макушин М. В., Мартынов В. В.Техника и экономика современной литографии // Фотоника. 2010. № 4.
- Валиев К. А. Физика субмикронной литографии. М.: Наука. 1990.
- DailyTech IDF09 Intel Demonstrates First 22nm Chips Discusses Die Shrink Roadmap URL
- http://www.dailytech.com/IDF09+Intel+Demonstrates+First+22nm+Chips+Discusses+Die+Shrink+Roadmap/article16312.htm
- Hand A. Double Patterning Wrings More From Immersion Lithography // Semiconductor International. 2007. January.
- Лапко А. В., Лапко В. А. Непараметрические системы обработки неоднородной информации. Новосибирск: Наука. 2007.
- Parzen E. On the estimation of a probability density function and mode // Ann. Math. Statist. 1962. P. 1065.
- Епаничников В. А. Непараметрическая оценка многомерной плотности вероятности // Теория вероятности и ее применения. 1969. Т. 14. Вып. 1. С. 156 - 161.
- Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. Формирование нанообъектов литографическим методом // Материалы VII Междунар. науч.-техн. конф. «Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения» (INTERMATIC - 2010) (Москва, 23 - 27 ноября 2010 г.). М.: Энергоатомиздат. 2010. Ч. 2. С. 332 - 333.
- Патент на полезную модель 104509 Российская федерация, МПК77H01J 37/28. Устройство для формирования нанодорожек / Е. Н. Ивашов, М. Ю. Корпачев, П. С. Костомаров; заявитель и патентообладатель МИЭМ. - № 2010146415/07; заявл. 15.11.2010; опубл. 20.05.2011, Бюл. № 14.