Свойства наноразмерных пленок оксида алюминия, полученных золь-гель методом при тепловом и электронно-лучевом отжиге

Е.В. Луговой; С.П. Авдеев; П.В. Серба; М.В. Рубашкина; В.В. Ткачук

Свойства наноразмерных пленок оксида алюминия, полученных золь-гель методом при тепловом и электронно-лучевом отжиге

Е.В. Луговой¹, С.П. Авдеев², П.В. Серба³, М.В. Рубашкина⁴, В.В. Ткачук⁵

научная статья Страницы: 30-35

¹ ведущий инженер НОЦ «Нанотехнологии», Южный федеральный университет (г. Таганрог)
² к.т.н., доцент, Южный федеральный университет (г. Таганрог)
³ д.ф.-м.н., профессор, зав. кафедрой, Южный федеральный университет (г. Таганрог)
⁴ аспирант, Южный федеральный университет (г. Таганрог)
⁵ студент, Южный федеральный университет (г. Таганрог)

Ключевые слова: золь-гель технология Al2O3 электронно-лучевая обработка атомно-силовая микроскопия вольт-фарадные характеристики РФЭС эллипсометрия

Аннотация

Рассмотрены вопросы синтеза наноразмерных пленок золь-гель технологией с последующим формированием стационарным и локальным тепловыми воздействиями в вакууме. В качестве пленкообразующего раствора применялся изопропилат алюминия, позволяющий получить высокочистый ксерогель бемита. Пленка ксерогеля является исходным материалом для рекристаллизации под воздействием тока электронного луча. Установлено, что модифицированные золь-гель пленки после отжига в вакууме и фазовых превращений имеют диэлектрическую проницаемость на 23-26 % ниже, чем у монокристаллического сапфира.

Для цитирования

Луговой Е.В., Авдеев С.П., Серба П.В., Рубашкина М.В., Ткачук В.В. Свойства наноразмерных пленок оксида алюминия, полученных золь-гель методом при тепловом и электронно-лучевом отжиге // Наноматериалы и наноструктуры - XXI век. 2013. № 2. С. 30–35.

Список источников

Ruppi S., Larsson A. Chemical vapour deposition of k-Al₂O₃ // Thin Solid Films. 2001. № 388. P. 50-61.
Siddhartha K. Pradhan, Philip J. Reucroft, Yeonkyu K. Crystallinity of Al₂O₃films deposited by metalorganic chemical vapor deposition // Surface and Coatings Technology. 2004. № 176. P. 382-384.
/ Nobuyuki Kawakami, Yoshihiro Yokota, Takeshi Tachibana, Kazushi Hayashi. Atomic layer deposition of Al₂O₃thin films on diamond // Diamond & Related Materials. 2005. № 14. P. 2015-2018.
Yadong Zhang, Jacob A. Bertrand, RongguiYang, et al. Electroplating to visualize defects in Al₂O₃ thin films grown using atomic layer deposition // Thin Solid Films. 2009. № 517. P. 3269-3272.
Gottmann J., Kreutz E.W.Pulse laser deposition of alumina and zirconia thin films on polymers and glass as optical and protective coating // Surface and Coating Technology. 1999. № 116-119. P. 1189-1194.
Chengbin Jing, Xiujian Zhao, Yongheng Zhang Sol-gel fabrication of compact, crack-free alumina film // Materials Research Bulletin. 2007. № 42. P. 600-608.
Masalski J., Gluszek J., Zabrzeski J., et al.Improvement in corrosion resistance of the 316l stainless steel by means of Al₂O₃ coatings deposited by the sol-gel method // Thin Solid Films. 1999. № 349. P. 186-190.
Авдеев С.П., Милешко Л.П., Музыков П.Г. и др. Перспективы применения электронно-лучевой обработки для модификации золь-гельных пленок легированного диоксида кремния // Физика и химия обработки материалов. 1998. № 2. С. 77-83.
Лохов, Сапогин, Чередниченко. Зарядовые процессы при электронно-лучевой модификации поверхности оптических стекол // Изв. ВШ Северо Кавказский регион. Естественные науки. 1995. № 3. С. 62-67.
Пшеницын В.И., Абаев М.И, Лызлов Н.Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях. Л.: Химия. 1986. 152 с.
Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии: Пер. с англ. / Под ред. Д. Бриггса, М.П. Сиха. М.: Мир. 1987. 600 с.

[1] Ruppi S., Larsson A. Chemical vapour deposition of k-Al₂O₃ // Thin Solid Films. 2001. № 388. P. 50-61.

[2] Siddhartha K. Pradhan, Philip J. Reucroft, Yeonkyu K. Crystallinity of Al₂O₃films deposited by metalorganic chemical vapor deposition // Surface and Coatings Technology. 2004. № 176. P. 382-384.

[3] / Nobuyuki Kawakami, Yoshihiro Yokota, Takeshi Tachibana, Kazushi Hayashi. Atomic layer deposition of Al₂O₃thin films on diamond // Diamond & Related Materials. 2005. № 14. P. 2015-2018.

[4] Yadong Zhang, Jacob A. Bertrand, RongguiYang, et al. Electroplating to visualize defects in Al₂O₃ thin films grown using atomic layer deposition // Thin Solid Films. 2009. № 517. P. 3269-3272.

[5] Gottmann J., Kreutz E.W.Pulse laser deposition of alumina and zirconia thin films on polymers and glass as optical and protective coating // Surface and Coating Technology. 1999. № 116-119. P. 1189-1194.

[6] Chengbin Jing, Xiujian Zhao, Yongheng Zhang Sol-gel fabrication of compact, crack-free alumina film // Materials Research Bulletin. 2007. № 42. P. 600-608.

[7] Masalski J., Gluszek J., Zabrzeski J., et al.Improvement in corrosion resistance of the 316l stainless steel by means of Al₂O₃ coatings deposited by the sol-gel method // Thin Solid Films. 1999. № 349. P. 186-190.

[8] Авдеев С.П., Милешко Л.П., Музыков П.Г. и др. Перспективы применения электронно-лучевой обработки для модификации золь-гельных пленок легированного диоксида кремния // Физика и химия обработки материалов. 1998. № 2. С. 77-83.

[9] Лохов, Сапогин, Чередниченко. Зарядовые процессы при электронно-лучевой модификации поверхности оптических стекол // Изв. ВШ Северо Кавказский регион. Естественные науки. 1995. № 3. С. 62-67.

[10] Пшеницын В.И., Абаев М.И, Лызлов Н.Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях. Л.: Химия. 1986. 152 с.

[11] Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии: Пер. с англ. / Под ред. Д. Бриггса, М.П. Сиха. М.: Мир. 1987. 600 с.

Аннотация

Для цитирования

Похожие статьи