ДЕТЕКТИРОВАНИЕ МИЛЛИМЕТРОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА МОДИФИЦИРОВАННЫХ ТОНКИХ ПЛЁНКАХ V, ВЫРАЩЕННЫХ В ПОТОКАХ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ

В. А. АЛЕКСАНДРОВ; А. А. СЕРДОБИНЦЕВ; А. Г. ВЕСЕЛОВ

ДЕТЕКТИРОВАНИЕ МИЛЛИМЕТРОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА МОДИФИЦИРОВАННЫХ ТОНКИХ ПЛЁНКАХ V, ВЫРАЩЕННЫХ В ПОТОКАХ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ

В. А. АЛЕКСАНДРОВ¹, А. А. СЕРДОБИНЦЕВ², А. Г. ВЕСЕЛОВ³

research article Pages: 34-36

^1,2,3 Саратовский филиал института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН VeselovaLP @info.sgu.ru

Keywords: microwave radiation detection material modification low-temperature plasma flow

Abstract

Ability of vanadium thin films modification in concentrated flow of low-temperature plasma is shown. Modification can take place due to variation of deposition conditions in direct current magnetron sputtering system. It was found out that interface between differently modified V films detects UHF radiation; sensitivity of experimental samples were up to 40 mV/W in the UHF power range of 60 dB.

How to cite

АЛЕКСАНДРОВ В.А., СЕРДОБИНЦЕВ А.А., ВЕСЕЛОВ А.Г. ДЕТЕКТИРОВАНИЕ МИЛЛИМЕТРОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА МОДИФИЦИРОВАННЫХ ТОНКИХ ПЛЁНКАХ V, ВЫРАЩЕННЫХ В ПОТОКАХ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ // Наукоемкие технологии. 2011. № 2. С. 34–36.

References

Сердобинцев А.А., Бурылин Е.И., Веселов А.Г., Кирясова О.А., Джумалиев А.С. // ЖТФ. 2008. Т. 78. Вып. 3.
С. 83 - 85.
Александров В.А., Веселов А.Г., Кирясова О.А., Сердобинцев А.А. // ЖТФ. 2009. Т. 79. Вып. 8.
Веселов А.Г., Рябушкин С.Л., Шуллер И.Я. // Письма
в ЖТФ. 1992. Т.18. Вып.11.
Helmersson U., Lattemann M., Bohlmark J., Ehiasarian A.P., Gudmundsson J.T. // Thin Solid Films. 2006. 513 (1 - 2). P. 1 - 24.
Siegel P.H. THz technology: an overview // Intern. J. High Speed Electronics and Systems. 2003. V. 13. P. 351 - 394.

[1] Сердобинцев А.А., Бурылин Е.И., Веселов А.Г., Кирясова О.А., Джумалиев А.С. // ЖТФ. 2008. Т. 78. Вып. 3.
С. 83 - 85.

[2] Александров В.А., Веселов А.Г., Кирясова О.А., Сердобинцев А.А. // ЖТФ. 2009. Т. 79. Вып. 8.

[3] Веселов А.Г., Рябушкин С.Л., Шуллер И.Я. // Письма
в ЖТФ. 1992. Т.18. Вып.11.

[4] Helmersson U., Lattemann M., Bohlmark J., Ehiasarian A.P., Gudmundsson J.T. // Thin Solid Films. 2006. 513 (1 - 2). P. 1 - 24.

[5] Siegel P.H. THz technology: an overview // Intern. J. High Speed Electronics and Systems. 2003. V. 13. P. 351 - 394.