Modeling ultraviolet lithography processes immersion stage design advances
- 1,2,5 к. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
- 3 д. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
- 4 аспирант, Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Abstract
Presented in the paper the mathematical model of nonparametric probability density estimates in small samples provides the possibility of technical modeling, without the use of real-world processes and immersion lithography equipment. Implementation of «bypass» the problem of small samples provides an increase of baseline data and improves the efficiency of technical modeling.
Developed technical device provides the ability to track the formation of nanometer design rules with no more than 32 nm so in ways that reduce the blur spot is reduced, and the technological defects of the process.
The proposed approach to modeling the processes of immersion lithography ultraviolet allows you to create new and improve existing technically feasible and technically attractive solution components and equipment during the design advances.
How to cite
Балан Н.Н., Васин В.А., Ивашов Е.Н., Костомаров П.С., Степанчиков С.В. Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования // Нелинейный мир. 2012. № 7. С. 454–460.
References
- Макушин М. В., Мартынов В. В. Техника и экономика современной литографии // Фотоника. 2010. № 4.
- Валиев К. А. Физика субмикронной литографии. М.: Наука. 1990.
- DailyTech IDF09 Intel Demonstrates First 22nm Chips Discusses Die Shrink Roadmap URL http://www.dailytech.com/IDF09+Intel+Demonstrates+First+22nm+Chips+Discusses+Die+Shrink+Roadmap/article16312.htm
- Hand A. Double Patterning Wrings More From Immersion Lithography // Semiconductor International. 2007. January.
- Лапко А. В., Лапко В. А. Непараметрические системы обработки неоднородной информации. Новосибирск: Наука. 2007.
- Parzen E. On the estimation of a probability density function and mode // Ann. Math. Statist. 1962. P. 1065.
- Епаничников В. А. Непараметрическая оценка многомерной плотности вероятности // Теория вероятности и ее применения. 1969. Т. 14. Вып. 1. С. 156 - 161.
- Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С.Формирование нанообъектов литографическим методом // Материалы VII Междунар. науч.-техн. конф. «Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения» (INTERMATIC - 2010) (Москва, 23 - 27 ноября 2010 г.). М.: Энергоатомиздат. 2010. Ч. 2. С. 332 - 333.
- Патент на полезную модель 104509 Российская федерация, МПК77H01J 37/28. Устройство для формирования нанодорожек / Е. Н. Ивашов, М. Ю. Корпачев, П. С. Костомаров; заявитель и патентообладатель МИЭМ. - № 2010146415/07; заявл. 15.11.2010; опубл. 20.05.2011, Бюл. № 14.