Synthesis of vanadium oxide films in a magnetron sputtering system with «torch» form of recombinating plasma zone
- 1 вед. инженер, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
- 2 ст. науч. сотрудник, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
Abstract
It is shown an ability to obtain thin vanadium oxide films on the cold amorphous substrate with amorphous or polycrystalline structure by magnetron sputtering method. The film structure is determined by effect of concentrated plasma flow in a growth area. The conclusions about film structure are drawn on the grounds of the Raman spectrum
How to cite
Александров В.А., Сердобинцев А.А. Синтез плёнок оксида ванадия в магнетронной распылительной системе с факельной формой рекомбинационного горения плазмы // Нелинейный мир. 2012. № 2. С. 105–106.
References
- Сидоров А. И., Виноградова О. П., Любимов В. Ю., Нащекин А. В. Синтез и модификация микро- и наностержней из оксидов ванадия // ПЖТФ. 2008. Т. 34. В. 3. С. 90-94.
- Александров В. А., Веселов А. Г. Магнитоактивность плёнок пермаллоя, выращенных в зоне рекомбинационного горения низкотемпературной плазмы // ЖТФ. 2008. Т. 78. В. 3. С. 101-103.