Журналы
Разделы книг
Статьи по ключевому слову deposition process parameters
Влияние технологических факторов магнетронного напыления на сопротивление тонкопленочных резисторов

Г.Р. Сагателян1, С.Ю. Новиков2, А.В. Шишлов3

1–3 МГТУ им. Н.Э. Баумана (Москва, Россия)
1 h_sagatelyan@mail.ru, 2 chyjd@yandex.ru, 3 orange_a@list.ru