350 руб
Журнал «Нелинейный мир» №7 за 2012 г.
Статья в номере:
Моделирование процессов иммерсионной ультрафиолетовой литографии на этапе аванпроектирования
Ключевые слова: моделирование технологических процессов аванпроектирование иммерсионная ультрафиолетовая литография рандомизированный метод оптимизации устройство для формирования нанодорожек
Авторы:
Н.Н. Балан - к. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) В.А. Васин - к. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет). E-mail: vacuumwa@list.ru Е.Н. Ивашов - д. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) П.С. Костомаров - аспирант, Московский государственный институт электроники и математики (технический университет). E-mail: pavel.kostomarov@gmail.com С.В. Степанчиков - к. т. н., Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Аннотация:
Предложена математическая модель непараметрической оценки плотности вероятности в условиях малых выборок, обеспечивающая возможность технического моделирования без использования реальных технологических процессов; показано, что реализация «обхода» проблем малых выборок увеличивает объем исходных данных и повышает эффективность технического моделирования; представлено устройство, формирующее дорожки диапазоном порядка 32 нм и минимальной технологической дефектностью процесса.
Страницы: 454-460
Список источников
  1. Макушин М. В., Мартынов В. В. Техника и экономика современной литографии // Фотоника. 2010. № 4.
  2. Валиев К. А. Физика субмикронной литографии. М.: Наука. 1990.
  3. DailyTech IDF09 Intel Demonstrates First 22nm Chips Discusses Die Shrink Roadmap URL http://www.dailytech.com/IDF09+Intel+Demonstrates+First+22nm+Chips+Discusses+Die+Shrink+Roadmap/article16312.htm
  4. Hand A. Double Patterning Wrings More From Immersion Lithography // Semiconductor International. 2007. January.
  5. Лапко А. В., Лапко В. А. Непараметрические системы обработки неоднородной информации. Новосибирск: Наука. 2007.
  6. Parzen E. On the estimation of a probability density function and mode // Ann. Math. Statist. 1962. P. 1065.
  7. Епаничников В. А. Непараметрическая оценка многомерной плотности вероятности // Теория вероятности и ее применения. 1969. Т. 14. Вып. 1. С. 156 - 161.
  8. Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С.Формирование нанообъектов литографическим методом // Материалы VII Междунар. науч.-техн. конф. «Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения» (INTERMATIC - 2010) (Москва, 23 - 27 ноября 2010 г.). М.: Энергоатомиздат. 2010. Ч. 2. С. 332 - 333.
  9. Патент на полезную модель 104509 Российская федерация, МПК77H01J 37/28. Устройство для формирования нанодорожек / Е. Н. Ивашов, М. Ю. Корпачев, П. С. Костомаров; заявитель и патентообладатель МИЭМ. - № 2010146415/07; заявл. 15.11.2010; опубл. 20.05.2011, Бюл. № 14.