350 руб
Журнал «Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век» №2 за 2015 г.
Статья в номере:
Наноструктурированные антиотражающие покрытия на основе аморфного диоксида кремния для силикатного стекла и фотоэлектрических преобразователей
Авторы:
С.В. Еськин - инженер, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН. E-mail: vn.stanislav@gmail.com Н.М. Ушаков - д.ф.-м.н., зав. лабораторией, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
Аннотация:
На силикатном стекле методом адсорбции из раствора получены плотное и пористое антиотражающие покрытия на основе фрактальных и сферических наночастиц SiO2 соответственно. Показано, что плотное покрытие увеличивает оптическое про-пускание стекла в среднем на 2,5-3,5 %, на определенной λ повышает прочность флоат-стекла на центрально-симметричный изгиб не менее чем на 25 % с обеих лицевых поверхностей, а также, обладая высокой твердостью, защищает подложку от повреждений в процессе эксплуатации. Рассмотрены возможность комбинированного применения таких наноструктурированных покрытий в различных конструкциях и перспектива использования плотного антиотражающего покрытия для фотоэлектрических преобразователей на основе кристаллического кремния.
Страницы: 46-47