П.А. Лучников - начальник отдела, НОЦ «Технологический центр» при МГТУ МИРЭА. Е-mail: xamdex@gmail.com А.А. Назаренко - аспирант, Московский государственный технический университет радиотехники электроники и автоматики. Е-mail: alexandrnazarenco@gmail.com А.А. Рогачев - к.т.н., ст. науч. сотрудник, Белорусский государственный университет транспорта (г. Гомель, Беларусь). Е-mail: rogachevfv@mail.ru

Изучены особенности морфологии и структурных свойств при росте тонких полимерных покрытий на основе полидихлорпараксилилена из газовой фазы. Установлено, что в тонких слоях 90-300 нм основной механизм роста связан с адсорбцией, диффузией и последующей полимеризацией исходного мономера. При толщинах более 1200 нм наблюдается формирование сплошных, плотноупакованных структурных образований полидихлорпараксилилена по механизму близкому к кластер-кластерной агрегации.

1. Кардаш И.Е., Пебалк А.В., Праведников А.Н. Химия и применение поли-п-ксилиленов // итоги науки и техники. Сер. Химия и технология ВМС. М.: ВИНИТИ. 1984. Т. 19. С. 66-150.
2. Лущейкин Г.А., Пебалк А.В., Маилян К.А., Кардаш И.Е. Диэлектрические свойства и релаксационные явления в поли(хлор-параксилилене) // Материалы Междунар. НТК «ПЛЕНКИ-2002». 26-30 ноября 2002 г. Москва. М.: МИРЭА. 2002. Ч. 1. С. 58-60.
3. Oriented Polymer Materials Edited by Stoyko Fakirov WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2002. 510 p.
4. Jeonga Y.S., Ratier B., Moliton A., Guyard L.  UV-visible and infrared characterization of poly(p-xylylene) films for waveguide applications and OLED encapsulation Synthetic Metals. 2002. V. 127. P. 189-193
5. Heilmann, A. Materials Science, 2003. 226 p.
6. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings (Third Edition) / Edited by: Peter M. Martin. Published by Elsevier Inc. 2010. 780 p.
7. Лазарева С.Я., Осипов А.В., Мальков Ю.Е. Исследование кинетики и механизма термического рахзложения поли-n-ксилилена // Высокомолекулярные соединения. 1979.Т. 21А.№ 7.С. 1509-1514.
8. Уразаев В.Влагозащитные полимерные покрытия: какие бывают // Технологии в электронной промышленности. 2005. № 5. С. 52-55.
9. Патент № 2461429 (РФ) Способ получения пленок полипараксилилена и его производных / Григорьев Е.И., Быкова И.В., Пебалк А.В., Чвалун С.Н.
10. Кочкин В.Ф., Гуревич А.Е. Лакокрасочные материалы в производстве радиоаппаратуры. М.: Химия. 1991.
11. Афанасьев М.С., П.А. Лучников, А.Ю. Митягин, А.А. Назаренко, Г.В. ЧучеваОсобенности технологической совместимости формирования слоистых гетероструктур на основе углеродных и перовскитных пленок // Нано­материалы и наноструктуры. 2012. Т. 3. № 1. С. 29-36.
12. Ланцев А.Н., Лучников А.П., Лучников П.А., Назаренко А.А. Влияние термической обработки на структурные свойства вакуумных покрытий на основе полипараксилилена // Наукоемкие технологии. 2013. Т. 14. № 1. С. 13-20.
13. Арутюнов П.А., Толстихина А.Л., Демидов В.Н. Система параметров для анализа шероховатости и микрорельефа поверхности материалов в сканирующей зондовой микроскопии // Заводская лаборатория. Диагностикаматериалов. 1999. Т. 65, № 9. С. 27-37.
14. Almqvist N. Fractal analysis of scanning probe microscopy images // Surface Sci. 1996. V. 355. № 1. P. 221-228.
15. Федер Е. Фракталы: пер с англ. М: Мир. 1991. 260 с.
16. Казицына Л.А., Куплетская Н.Б. Применение УФ-, ИК- и ЯМР-спектроскопии в органической химии. Учеб. пособие для вузов. М.: Высш. Школа. 1971. 264 с.
17. Купцов А.X., Жижин Г.Н. Фурье-спектры комбинацион­ного рассеяния и инфракрасного поглощения поли­меров. Справочник. М.: Физматлит. 2001. 656  с.
18. Nowlin T.E., Smith D.F., Cieloszyk G.S.Thermal Oxidative Stability of Poly-p-Xylylenes // Journal of Polymer Science: Polymer Chemistry Edition. 1980. V. 18. P. 2103-2119.