Название статьи или книги, фамилия автора, DOI

Наноструктурированные антиотражающие покрытия на основе аморфного диоксида кремния для силикатного стекла и фотоэлектрических преобразователей

С.В. Еськин1, Н.М. Ушаков2

научная статья Страницы: 59-60

  1. 1 инженер, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
  2. 2 д.ф.-м.н., зав. лабораторией, Саратовский филиал ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН

Аннотация

На силикатном стекле методом адсорбции из раствора получены плотное и пористое антиотражающие покрытия на основе фрактальных и сферических наночастиц SiO2 соответственно. Показано, что плотное покрытие увеличивает оптическое пропускание стекла в среднем на 2,5-3,5 %, на определенной λ повышает прочность флоат-стекла на центрально-симметричный изгиб не менее чем на 25 % с обеих лицевых поверхностей, а также, обладая высокой твердостью, защищает подложку от повреждений в процессе эксплуатации. Рассмотрены возможность комбинированного применения таких наноструктурированных покрытий в различных конструкциях и перспектива использования плотного антиотражающего покрытия для фотоэлектрических преобразователей на основе кристаллического кремния.

Для цитирования

Еськин С.В., Ушаков Н.М. Наноструктурированные антиотражающие покрытия на основе аморфного диоксида кремния для силикатного стекла и фотоэлектрических преобразователей // Нелинейный мир. 2014. № 2. С. 59–60.