Название статьи или книги, фамилия автора, DOI

Явления бистабильности и самоорганизации в процессах магнетронного синтеза функциональных слоев

А.Х. Абдуев1, А.Ш. Асваров2, А.К. Ахмедов3, С.В. Агасиева4, В.В. Беляев5, Д.В. Генералов6, Д.В. Николаева7, Е.А. Сметанин8, Тирадо Росеро Джонатан Андрес9

научная статья УДК 621.793.18 Страницы: 31-38 doi.org/10.18127/j22250980-202203-04

  1. 1,4,6,7,8,9 Российский университет дружбы народов (Москва, Россия)
  2. 2,3 Институт физики, Дагестанский федеральный исследовательский центр РАН (г. Махачкала, Россия)
  3. 5 Российский университет дружбы народов (Москва, Россия); Московский государственный областной университет (г. Мытищи, Россия)

Аннотация

Постановка проблемы. Гистерезисные явления и иные неустойчивости, наблюдаемые при магнетронном синтезе функциональных слоев, являются помехой в создании коммерчески привлекательных низкотемпературных технологий прозрачной электроники. Наряду с этим, в ряде исследований показано, что магнетронное распыление может сопровождаться процессами самоорганизации в плазменном разряде, тонком приповерхностном слое распыляемой мишени и в структуре формируемых слоев. Возникает противоречивая задача устранения негативных воздействий гистерезисных явлений и управляемого гистерезисного синтеза периодических структур для улучшения характеристик функциональных слоев.

Цель работы – изучение механизмов самоупорядочения в плазменных процессах и в процессах формирования упорядоченных многослойных структур (сверхрешеток), создание новых технологий синтеза функциональных слоев с улучшенными характеристиками на основе явлений самоорганизации.

Результаты. Выполнен анализ данных, полученных при исследовании процессов самоорганизации в магнетронной плазме, на поверхности зоны эрозии мишеней и поверхности роста слоев. На основании проведенного анализа сделаны выводы о взаимосвязи нестабильностей магнетронного разряда, гистерезисных явлений, температурных градиентов вблизи поверхности мишени с модуляцией интенсивности потока металлической фазы к поверхности роста и с формированием периодических структур. Предложена модель самоорганизации при магнетронном распылении металлокерамических мишеней ZnO– SnO2 с содержанием металлической компоненты Zn–Sn 10 мас.%. 

Практическая значимость. Заключается в создании научной платформы для воспроизводимого магнетронного синтеза совершенных функциональных слоев и в разработке многослойных покрытий для прозрачной электроники с использованием процессов самоорганизации.

Поступила
15.06.2022
Одобрена
01.08.2022
Принята
31.08.2022

Для цитирования

Абдуев А.Х., Асваров А.Ш., Ахмедов А.К., Агасиева С.В., Беляев В.В., Генералов Д.В., Николаева Д.В., Сметанин Е.А., Тирадо Росеро Джонатан Андрес Явления бистабильности и самоорганизации в процессах магнетронного синтеза функциональных слоев // Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век. 2022. № 3. С. 31–38. DOI: https://doi.org/10.18127/j22250980-202203-04

Список источников
  1. Facchetti A. Transparent Electronics: From Synthesis to Applications. Wiley. 2010. 470 p.
  2. Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. М.: Техносфера. 2010. 527 с.
  3. Абдуев А., Магомедов А. Устойчивые токовые осцилляции при магнетронном распылении оксидных мишеней // ПЖТФ. 1998. Т. 24. № 5. С. 58–62.
  4. Abduev A., Akhmedov A., Asvarov A., Kanevsky V., Muslimov A., Belyaev V., Generalov D., Nikolaeva D., Tirado J., Frah M.A.A. Advanced Processes for Low-Temperature Formation of Functional Metal Oxide Based Thin Films // Journal of Physics: Conference Series. 2021. V. 2056. P. 012046.
  5. Ehiasarian A., Hecimovic A., De Los Arcos T., New R. High Power Impulse Magnetron Sputtering Discharges: Instabilities and Plasma Self-Organization // Applied Physics Letters. V. 100. № 11. P. 114101.
  6. Wang W.-Q., Ji L., Li H.-X., Liu X.-H., Zhou H.-D., Chen J.-M. Controllable Fabrication of Self-Organized Nano-Multilayers in Copper–Carbon Films // Chinese Physics B. 2019. V. 28. № 3. P. 036802.
  7. Wu W.Y., Ting J.M. Comparative Study of Self-Assembling of Multilayers using Reactive Sputter Deposition and Mass Selective Ion Beam Deposition // Carbon. 2006. V. 44. P. 1210–1217.
  8. Abduev A.K., Asvarov A.S., Akhmedov A.K. Study of ZnO–SnO2 Thin Film Growth Processes // Journal of Nano- and Electronic Physics. 2018. V. 10. № 6. P. 06020.
  9. Berg S., Nyberg Т. Fundamenta1 understanding and modeling of reactive sputtering processes // Thin Solid Films. 2005. V. 476.  P. 215-230.
  10. Shaginyan L., Shaginyan V., Kuzmichev A., Mironov M. On the Target Surface Temperature During dc Magnetron Sputtering // Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2020. V. 92. P. 10801.