Использование СВЧ-фотонных структур для измерения параметров нанометровых пленок

Предложена и экспериментально реализована методика измерения толщины и электропроводности нанометровых металлических пленок в слоистых структурах с использованием частотной зависимости коэффициента отражения электромагнитной волны от исследуемой структуры. Показана возможность решения практически важной задачи: определения толщины и электропроводности металлической плёнки (хром, алюминий) в диапазоне от 10 до 2000 нм, нанесенной на полупроводниковые, керамические и стеклянные подложки. Представлены результаты исследования возможности применения СВЧ-фотонных структур для измерения параметров нанометровых металлических пленок на изолирующих подложках. Показано, что выбором параметров фотонной структуры и частоты зондирующего излучения в области «окна» прозрачности, обусловленного нарушением периодичности фотонной структуры вследствие изменения толщины или диэлектрической проницаемости одного из ее слоев, возможно регулирование чувствительности коэффициента отражения к изменению толщины металлического слоя измеряемой структуры.