Photo-stimulated transformations of nano-sized films of tungsten (VI) oxide

S.V. Been; E.P. Surovoy; A.A. Sukhorukova; T.M. Zaikonnikova

Photo-stimulated transformations of nano-sized films of tungsten (VI) oxide

S.V. Been¹, E.P. Surovoy², A.A. Sukhorukova³, T.M. Zaikonnikova⁴

research article Pages: 12-16

¹ к.х.н., мл. науч. сотрудник, Кемеровский государственный университет
² д.х.н., профессор, зав. кафедрой, Кемеровский государственный университет
^3,4 аспирант, Кемеровский государственный университет

Keywords: nano-sized film tungsten oxide irradiation photo-chemical transformation light beam

Abstract

There are investigated experimentally the processes of transformation of tungsten oxide 2-250 nm thick films under the light beam irradiation with 320 nm wave length and the intensity (1,5-7)1015 quants sm?2s?1. If the wave length lies in the region of self-absorption, the transformation ratio decreases with increasing film thickness, and the photo-chemical transformation rate increases with increasing intensity of light beam. In the air the film transformation ratio increases substantially under light irradiation during 1-140 minutes and also with decreasing film thickness. It is shown that nonequilibrium electrons may contribute to the process of W6+ reduction and interact with anion vacancies. A shift of the absorption band edge to the short wave length spectrum region under light with 850 nm wave length is detected.

How to cite

Бин С.В., Суровой Э.П., Сухорукова А.А., Заиконникова Т.М. Фотостимулированные превращения наноразмерных пленок оксида вольфрама (VI) // Наноматериалы и наноструктуры - XXI век. 2012. № 4. С. 12–16.

References

Суздалев И.П. Нанотехнология: физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов. М.: КомКнига. 2006. 592 с.
Гусев А.И.Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. М.: ФИЗМАТЛИТ. 2005. 416 с.
Пул Ч., Оуэнс Ф.Нанотехнологии. М.: Техносфера. 2006. 336 с.
Халманн М. Фотохимическая фиксация диоксида углерода // Энергетические ресурсы сквозь призму фотохимии и фотокатализа. М.: Мир. 1986. С. 549-578.
Лазарев В.Б., Соболев В.В., Шаплыгин И.С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука. 1983. 239 с.
Васько А.Т.Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка. 1977. 172 с.
Гуревич Ю.Я. Твердые электролиты. М.: Наука. 1986. 176 с.
Лусис А.Р., Клеперис Я.Я. Электрохимические процессы в твердотельных электрохромных системах // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450.
Фаунен Б.В., Крэнделл Р.С. Электрохромные дисплеи на основе WO₃ // Дисплеи. М.: Изд-во «Мир». 1982. 316 с.
Giulio M.D., Manno D. Sputter deposition of tungsten trioxide for gas sensing applications // Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 1998. V. 9. P. 317-322.
Габрусенок Е.В.Динамика решетки триоксида вольфрама // Электрохромизм. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.
Лазарев В.Б., Красов В.Г., Шаплыгин И.С. Электропроводность окисных систем и пленочных структур. М.: Изд-во «Наука». 1979. 168 с.
Клявинь Я.К., Лагздонс Ю.Л., Лусис А.Р. Электрические свойства пленок WO₃ // Физика и химия стеклообразующих систем. 1976. № 4. С. 141-149.
MaosongTong, GuoruiDaiWO₃thinfilmprepared
byPECVDtechniqueanditsgassensingproperties
toNO₂ // JournalofMaterialsScience. 2001. V. 36. Р. 2535‑2538.
Раманс Г.М. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена. Рига: ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.
Перельман Ф.М., Зворыкин А.Я. Молибден и вольфрам. М.: Изд-во «Наука». 1968. 140 с.
Surovoy E.P., Borisova N.V., Тitov I.V. Investigation of energy action influence on WO₃ (MoO₃) ? metal system // Известиявысшихучебныхзаведений. Физика. 2006. № 10. Приложение. С. 338‑340.
Борисова Н.В., Суровой Э.П., Титов И.В. Формирование систем «медь - оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. № 7. С. 16‑20.
Суровой Э.П., Борисова Н.В. Термопревращения в наноразмерных слоях MoO₃ // Журнал физической химии. 2008. Т. 82. № 2. С. 2120-2125.
Технология тонких пленок / Под ред. Л. Майссела,
Р. Гленга. М.: Советское радио. 1977. 664 с.
Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках. М.: Мир. 1973. 456 с.
Эпштейн М.И. Измерения оптического излучения в электронике. Л.: Энергоатомиздат. 1990. 256 с.

[1] Суздалев И.П. Нанотехнология: физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов. М.: КомКнига. 2006. 592 с.

[2] Гусев А.И.Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. М.: ФИЗМАТЛИТ. 2005. 416 с.

[3] Пул Ч., Оуэнс Ф.Нанотехнологии. М.: Техносфера. 2006. 336 с.

[4] Халманн М. Фотохимическая фиксация диоксида углерода // Энергетические ресурсы сквозь призму фотохимии и фотокатализа. М.: Мир. 1986. С. 549-578.

[5] Лазарев В.Б., Соболев В.В., Шаплыгин И.С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука. 1983. 239 с.

[6] Васько А.Т.Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка. 1977. 172 с.

[7] Гуревич Ю.Я. Твердые электролиты. М.: Наука. 1986. 176 с.

[8] Лусис А.Р., Клеперис Я.Я. Электрохимические процессы в твердотельных электрохромных системах // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450.

[9] Фаунен Б.В., Крэнделл Р.С. Электрохромные дисплеи на основе WO₃ // Дисплеи. М.: Изд-во «Мир». 1982. 316 с.

[10] Giulio M.D., Manno D. Sputter deposition of tungsten trioxide for gas sensing applications // Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 1998. V. 9. P. 317-322.

[11] Габрусенок Е.В.Динамика решетки триоксида вольфрама // Электрохромизм. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.

[12] Лазарев В.Б., Красов В.Г., Шаплыгин И.С. Электропроводность окисных систем и пленочных структур. М.: Изд-во «Наука». 1979. 168 с.

[13] Клявинь Я.К., Лагздонс Ю.Л., Лусис А.Р. Электрические свойства пленок WO₃ // Физика и химия стеклообразующих систем. 1976. № 4. С. 141-149.

[14] MaosongTong, GuoruiDaiWO₃thinfilmprepared
byPECVDtechniqueanditsgassensingproperties
toNO₂ // JournalofMaterialsScience. 2001. V. 36. Р. 2535‑2538.

[15] Раманс Г.М. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена. Рига: ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.

[16] Перельман Ф.М., Зворыкин А.Я. Молибден и вольфрам. М.: Изд-во «Наука». 1968. 140 с.

[17] Surovoy E.P., Borisova N.V., Тitov I.V. Investigation of energy action influence on WO₃ (MoO₃) ? metal system // Известиявысшихучебныхзаведений. Физика. 2006. № 10. Приложение. С. 338‑340.

[18] Борисова Н.В., Суровой Э.П., Титов И.В. Формирование систем «медь - оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. № 7. С. 16‑20.

[19] Суровой Э.П., Борисова Н.В. Термопревращения в наноразмерных слоях MoO₃ // Журнал физической химии. 2008. Т. 82. № 2. С. 2120-2125.

[20] Технология тонких пленок / Под ред. Л. Майссела,
Р. Гленга. М.: Советское радио. 1977. 664 с.

[21] Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках. М.: Мир. 1973. 456 с.

[22] Эпштейн М.И. Измерения оптического излучения в электронике. Л.: Энергоатомиздат. 1990. 256 с.

Abstract

How to cite

Related articles