Е.А. Леванович1, А.В. Чернышев2, Р.Ю. Казанцев3, В.С. Леонов4, А.Н. Масюгин5

1–5 АО «Научно-производственное предприятие «Радиосвязь» (г. Красноярск, Россия)
1 egor12906@gmail.com, 5 albert.masyugin@mail.ru

Постановка проблемы. Отработка режимов нанесения необходимых материалов для разработки технологического процесса изготовления термостабильных резистивных СВЧ-нагрузок с использованием в качестве резистивного слоя тонкой пленки тантала – одна из важных проблем радиоэлектроники.

Цель. Провести исследование влияния разных режимов термообработки для стабилизации тонких танталовых пленок.

Результаты. Исследованы различные марки фоторезиста для проведения литографии, проведен подбор оптимального материала подложки для данного типа нагрузок. Отработан режим напыления танталовых пленок на установке магнетронного напыления.

Практическая значимость. На основании данных, полученных в ходе исследования, разработан технологический процесс изготовления термостабильных резистивных СВЧ-нагрузок и изготовлены образцы.

Леванович Е.А., Чернышев А.В., Казанцев Р.Ю., Леонов В.С., Масюгин А.Н. Разработка технологического процесса изготовления термостабильных резистивных СВЧ-нагрузок // Динамика сложных систем. 2025. Т. 19. № 1. С. 43−48. DOI: 10.18127/ j19997493-202501-05

1. Бахарев С.И. и др. Справочник по расчету и конструированию СВЧ полосковых устройств. М.: Радио и связь. 1982. 328 с.
2. Согласованные нагрузки на подвижной состав [Электронный ресурс]: Nesta-RF. URL: https://nesta-rf.ru/soglasovannyenagruzki (дата обращения: 25.03.2024).
3. Керамические подложки на основе нитрида алюминия AlN [Электронный ресурс]. URL: https://gnelectronics.ru/produktsiya/ keramicheskiepodlozhki/keramicheskie-podlozhki-na-osnove-nitrida-alyuminiya-aln33259056/ (дата обращения: 25.03.2024).
4. Керамические подложки на основе оксида алюминия Al2O3 [Электронный ресурс]. URL: https://gnelectronics.ru/produktsiya/ keramicheskiepodlozhki/keramicheskie-podlozhki-na-osnove-oksida-alyuminiya-al2o36027123/ (дата обращения: 25.03.2024).
5. Жигальский А.А. Проектирование и конструирование интегральных микросхем: Учеб. пособие. Томск: ТУСУР. 2007. 195 с.
6. Ерофеев Е.В., Полынцев Е.С., Ишуткин С.В. Исследование тонкопленочных резисторов на основе нитрида тантала, полученных методом реактивного магнетронного распыления, для устройств радиофотоники // Прикладная физика. 2021. № 5. 6 с.
7. Joachim Rolke Nichrome thin film technology and its application. Electrocomponent Science and Technology. 1981. V. 9. P. 51–57.
8. Минаков В.И., Коган М.З. Производство тонкопленочных микросхем: Учеб. пособие для индивидуального и бригадного обучения рабочих. Л.: Энергия. 1973. 176 с.
9. Смирнов С.В., Чистоедова И.А., Литвинов В.А. Структура и свойства тонких пленок тантала, полученные магнетронным распылением // Доклады ТУСУР. 2005. № 4. С. 80–83.
10. Егоров Н. Циркуляторы и вентили ВЧ- и СВЧ-диапазона – решения компании DiTom Microwave // Электроника. 2013. №2 (00124). С. 94–97.
11. ВЧ-распыление диэлектриков. [Электронный ресурс]. URL: https://studfile.net/preview/16936334/ (дата обращения: 19.05.2024).
12. Лазерная подгонка резисторов. [Электронный ресурс]. URL: https://laser-form.ru/technologies/lazernaya-podgonka-rezistorov/ (дата обращения: 03.04.2024).