350 rub
Journal №4 for 2012 г.
Article in number:
Photo-stimulated transformations of nano-sized films of tungsten (VI) oxide
Keywords: nano-sized film tungsten oxide irradiation photo-chemical transformation light beam
Authors:
S.V. Been, E.P. Surovoy, A.A. Sukhorukova, T.M. Zaikonnikova
Abstract:
There are investigated experimentally the processes of transformation of tungsten oxide 2-250 nm thick films under the light beam irradiation with 320 nm wave length and the intensity (1,5-7)1015 quants sm?2s?1. If the wave length lies in the region of self-absorption, the transformation ratio decreases with increasing film thickness, and the photo-chemical transformation rate increases with increasing intensity of light beam. In the air the film transformation ratio increases substantially under light irradiation during 1-140 minutes and also with decreasing film thickness. It is shown that nonequilibrium electrons may contribute to the process of W6+ reduction and interact with anion vacancies. A shift of the absorption band edge to the short wave length spectrum region under light with 850 nm wave length is detected.
Pages: 12-16
References
  1. Суздалев И.П. Нанотехнология: физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов. М.: КомКнига. 2006. 592 с.
  2. Гусев А.И.Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. М.: ФИЗМАТЛИТ. 2005. 416 с.
  3. Пул Ч., Оуэнс Ф.Нанотехнологии. М.: Техносфера. 2006. 336 с.
  4. Халманн М. Фотохимическая фиксация диоксида углерода // Энергетические ресурсы сквозь призму фотохимии и фотокатализа. М.: Мир. 1986. С. 549-578.
  5. Лазарев В.Б., Соболев В.В., Шаплыгин И.С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука. 1983. 239 с.
  6. Васько А.Т.Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка. 1977. 172 с.
  7. Гуревич Ю.Я. Твердые электролиты. М.: Наука. 1986. 176 с.
  8. Лусис А.Р., Клеперис Я.Я. Электрохимические процессы в твердотельных электрохромных системах // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450.
  9. Фаунен Б.В., Крэнделл Р.С. Электрохромные дисплеи на основе WO3 // Дисплеи. М.: Изд-во «Мир». 1982. 316 с.
  10. Giulio M.D., Manno D. Sputter deposition of tungsten trioxide for gas sensing applications // Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 1998. V. 9. P. 317-322.
  11. Габрусенок Е.В.Динамика решетки триоксида вольфрама // Электрохромизм. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.
  12. Лазарев В.Б., Красов В.Г., Шаплыгин И.С. Электропроводность окисных систем и пленочных структур. М.: Изд-во «Наука». 1979. 168 с.
  13. Клявинь Я.К., Лагздонс Ю.Л., Лусис А.Р. Электрические свойства пленок WO3 // Физика и химия стеклообразующих систем. 1976. № 4. С. 141-149.
  14. MaosongTong, GuoruiDaiWO3thinfilmprepared
    byPECVDtechniqueanditsgassensingproperties
    toNO2 // JournalofMaterialsScience. 2001. V. 36. Р. 2535‑2538.
  15. Раманс Г.М. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена. Рига: ЛГУ им. П. Стучки. 1987. 143 с.
  16. Перельман Ф.М., Зворыкин А.Я. Молибден и вольфрам. М.: Изд-во «Наука». 1968. 140 с.
  17. Surovoy E.P., Borisova N.V., Тitov I.V. Investigation of energy action influence on WO3 (MoO3) ? metal system // Известиявысшихучебныхзаведений. Физика. 2006. № 10. Приложение. С. 338‑340.
  18. Борисова Н.В., Суровой Э.П., Титов И.В. Формирование систем «медь - оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. № 7. С. 16‑20.
  19. Суровой Э.П., Борисова Н.В. Термопревращения в наноразмерных слоях MoO3 // Журнал физической химии. 2008. Т. 82. № 2. С. 2120-2125.
  20. Технология тонких пленок / Под ред. Л. Майссела,
    Р. Гленга.     М.: Советское радио. 1977. 664 с.
  21. Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках. М.: Мир. 1973. 456 с.
  22. Эпштейн М.И. Измерения оптического излучения в электронике. Л.: Энергоатомиздат. 1990. 256 с.